机译:Xe轰击预非晶化的浅BF_2植入物是:Xe与f之间的相互作用
机译:通过快速退火对超浅B和BF2注入的硅进行电活化
机译:在法国监管机构发出“多种植体修复术”警报之前的重建手术后的头四年内,“多种植体修复术”,“ Allergan”和“Pérouse”硅酮乳房植入术的植入率比较
机译:Xe注入硅中产生的浅层损伤轮廓的椭偏特征
机译:使用等离子体浸没离子注入和外延二硅化钴作为掺杂源的超浅结制造。
机译:等离子体浸没离子注入技术对金刚石中氮空位色中心浅层的工程化
机译:Xe-轰击-预非晶化的浅BF2植入物是:Xe和F之间的相互作用
机译:离子注入技术同时形成浅硅p-n结和浅硅化物 - 硅欧姆接触。